Установка обработки полупроводниковых пластин ультрафиолетом УФ-200

Описание

Характеристики

Установка ультрафиолетовой обработки (далее УФ-200) предназначена для обработки кремниевых пластин ультрафиолетом с длиной волны* 350-370 нм. УФ-200 разработана для использования в промышленных целях. Установка предназначена для эксплуатации в закрытых, отапливаемых помещениях с температурой окружающей среды от +5 до +30 °С. Не требует установки дополнительной вытяжки и охлаждения.

Диаметр обрабатываемых пластин — от 100мм до 200мм
Режимы управления — ручной и полуавтоматический
Длина волны излучения — 350-370 нм
Мощность излучения — 15 мВт/см2
Габаритные размеры (В*Ш*Д), мм — 252*480*480
Доза излучения при времени засветки 20с — не менее 300мДж/см2
Масса установки – 30 кг

Наши услуги

Микроскопы

Прочее оборудование

Оборудование для
разделения и подготовки
кристаллов к сборке