ЭМ-586 установка двухстороннего совмещения и экспонирования
Установка с проведенным техническим обслуживанием и восстановлением оптико-механических узлов, с оригинальной системой управления. Может быть поставлена с новой системой управления, с новым блоком питания установки и с новыми блоком питания ламп ДРШ, электронные узлы разработаны на основе стандартизированных современных комплектующих-контроллеров, ЖК панелей, блоков питания и др.
Диаметр полупроводниковых пластин — 40мм, 50мм, 60мм, 76мм, 100мм
Толщина полупроводниковых пластин — 0,2....0,3мм
Размер минимального элемента изображения — 4 мкм
Неравномерность освещенности рабочего поля — 10 %
Погрешность совмещения элементов
фотошаблона и полупроводниковой пластины — 2 мкм
Линейное увеличение микроскопа — 46....225*
Оборудование для
разделения и подготовки
кристаллов к сборке
Оборудование для
зондового контроля
Оптико-механическое
оборудование
Оптико-механическое
оборудование